佳能将宇都宫的半导体曝光装置产能提高至1.5倍——投资100亿日元

    佳能将在年内对枥木县的半导体曝光装置工厂产能提高至2014年的1.5倍。投资额预计100亿日元规模。在物联网(IoT)普及的背景下,该公司生产的光源——i线和氟化氪(KrF)两装置需求坚挺,将时隔5年启动大型投资,同时考虑建立“纳米刻印曝光露光”技术的新一代装置量产体制,让陷入苦战的曝光装置事业转守为攻。

 

    佳能在宇都宫事业所(宇都宫市)和阿见事业所(茨城县阿见町)制造半导体曝光装置。本次将在主力的宇都宫事业所现有工厂引进新设备材料和工装夹具。

 

    该公司2016年i线和KrF装置的合计销量预计达到3年前的两倍,增至86台。通过增产投资确保生产能力后,2020年KrF装置的行业份额计划提高至50%(现在为20%多)。

 


引用: http://www.nikkan.co.jp/articles/view/00380473
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