山口大学通过独自开发的溅射装置不加热基板制作出ITO透明电极膜

    【山口】山口大学研究生院理工学研究科的诸桥信一教授使用独自开发的溅射(成膜)装置,不需对基板加热即可制作出低电阻率、高通过率的“氧化铟锡(ITO)透明电极膜”。LED和太阳能电池的电极膜不需要使用价格高、复杂的设备即可制作。

 

   LED等薄膜材料正从硬重的玻璃基板向轻薄的耐高温聚酯薄膜(PET)转换。一般的溅射装置需要将基板加热至数百摄氏度,但因高温和处理剂对基板会造成损伤,制作过程中的课题较多。诸桥教授的小组应用了不同方式的2种溅射装置原理。


    装置被称为“混合对向溅射系统”,内部的可动磁棒可左右对称、非对称的移动,使对向目标间的磁场分布发生变化,形成最适合薄膜制作的磁场分布及等离子状态。基板不需要水冷。保护层也无损伤,“可按照每分钟142纳米的速度形成可堆积的ITO透明电极膜”(诸桥教授)。


   将来将通过山口TLO(山口县宇部市)向民间企业作为量产装置移交技术。


引用: http://www.nikkan.co.jp/news/nkx0720150915eaag.html
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